n  新版ASME Y14.5M-2009的主要更新

l  增加了新的概念和符号，例如：
双边不对等公差标注
移动基准(Moveable Datum Target)
自由轮廓基准

l  澄清或拓展了1994版的概念，例如：
尺寸公差、规则#1，理论尺寸、同轴度控制

l  解释了1994版混淆和含糊的概念

l  导入了美国ASME Y14系列中其它概念

n  GD&T介绍，符号和术语

l  历史，目的，范围

l  工程图纸 (Engineering Drawing)

l  标注标准 (Dimensioning Standard)

l  实体原则和补偿因子 (Material Condition)

l  公差调整因子 (Modifier)

l  传统正负公差对标注位置的弊端

l  GD&T与传统坐标的关系和差异

l  GD&T 层次(GD&T Hierarchy)

l  形位公差之间的等级和相互约束关系

l  半径和可控半径 (Controlled Radius)

公差介绍 (Tolerancing Introduction)

n  规则和概念 (Rules and Concept)

l  规则#1, #2 (Rule #1, #2)

l  基本尺寸 (Basic Dimension)

l  实效边界条件 (Virtual Condition)

l  材料实体原则: MMC/LMC/RFS

l  公差补偿 (Bonus Tolerance)

n  基准 (Datum)

l  基准的定义, 基准形体(Feature)

l  基准的定义原则：装配、检测、加工、设计？

l  基准的正确标注：杜绝含糊的基准标注

l  基准错误标注对零件检测的影响

l  基准要素误差对零件检测结果判断的影响

l  基准模拟(Datum Simulator)

l  符号位置(Symbol Placement)

l  基准目标(Datum Target)

l  基准指导(Datum Guidline)

l  自由状态(Free State)

l  基准偏移 (Datum Shift)

l  实体基准应用: RFS (FOS Datum: RFS)

l  实体基准应用: MMC (FOS Datum: MMC)

l  基准最大实体和最小实体对检具的影响

l  基准的实体补偿对位置公差检测的影响

n  形状公差 (Form)

l  平面度 (Flatness)

l  直线度 (Straightness)
直线度: 面 (Surface)
直线度: 中心面 (Center Surface)

l  圆度 (Roundness)

l  圆柱度 (Cylindricity)

l  形状公差之间的相互制约关系

l  尺寸公差和形状公差之间的相互制约关系

n  定向公差 (Orientation)

l  垂直度 (Perpendicularity)

l  平行度 (Parallelism)

l  倾斜度 (Angularity)

l  切面公差 (Tangent Plane)

l  尺寸公差和定向公差之间的相互关系

n  定位公差 (Position)

l  位置度定义 (TOP Definition)

l  位置度要求 (TOP Theories)

l  位置度应用: RFS (TOP: RFS)

l  位置度应用: MMC (TOP: MMC)

l  位置度计算: (TOP Calculation)

l  复合位置 ( Composite Position)

l  同轴度 (Coaxiality)：轴线位置控制

l  对称度 (Symmetry)：中面位置控制

l  松动螺栓连接 (Fixed Fasteners)

l  固定螺栓连接 (Floating Fasteners)

n  轮廓 (Profile)

l  面轮廓度 (Surface Profile)

l  线轮廓度 (Line Profile)

l  复合轮廓 (Composite Profile)

l  共面法 (Coplanarity Applications)

l  轮廓度计算 (Calculation)

n  同心度和对称度(Concentricity/Symmetry)

l  同心度 (Concentricity)：中点位置控制

l  对称度 (Symmetry Control)：中点位置控制

l  同心度和同轴的区别，测量的差异

n  跳动度 (Runout)

l  圆跳动度 (Circular Runout)

l  全跳动度 (Total Runout)

l  跳动度计算 (Calculation)

n  GD&T测量实现：传统测量和CMM测量 (GD&T Measurement: 投影仪/CMM，该部分内容结合在所有的GD&T的讲解过程中)

l  测量基准建立 (Measurement Datum Setup)

l  基准选择对测量误差的影响

l  基准自身误差对测量误差的影响

l  测量误差分析 (Measure Error Analysis)

l  形状公差测量 (Form Measurement)

l  定向公差测量 (Orientation Measurement)

l  位置度测量 (TOP measurement)

l  位置度基准建立 (TOP datum setup)

l  复合位置测量 (Composite TOP Measurement)

l  位置度应用实体原则的测量，包括公差补偿和基准偏移(TOP with MMC/LMC Measurement, include Bonus Tolerance, Datum Shift)

l  轮廓度测量(Profile Measurement)

l  轮廓度基准建立 (Profile Datum Setup)

l  轮廓度应用实体原则的测量：只有基准偏移 (Profile with MMC Measurement, Only Datum Shift)

n  案例分析和练习包含在以上所有内容

n  现场辅导：检具设计(Gage), 测量分析(CMM)和图纸理解(GD&T Print Reading)问题解答.